《電子工業專用設備》經新聞出版總署批準,自1971年創刊,國內刊號為62-1077/TN,本刊積極探索、勇于創新,欄目設置及內容節奏經過編排與改進,受到越來越多的讀者喜愛。
《電子工業專用設備》為《中國科技論文統計》和《中國電子科技文摘》用刊,同時是《中國學術期刊(光盤版)》、中國期刊網、萬方 資源系統(ChinaInfo)數字化期刊網及北極星網站全文收錄期刊。
雜志簡介:《電子工業專用設備》雜志經新聞出版總署批準,自1971年創刊,國內刊號為62-1077/TN,是一本綜合性較強的電子期刊。該刊是一份雙月刊,致力于發表電子領域的高質量原創研究成果、綜述及快報。主要欄目:先進封裝技術與設備、半導體制造工藝與設備、電子專用設備研究、專用設備維護與保養
《電子工業專用設備》經新聞出版總署批準,自1971年創刊,國內刊號為62-1077/TN,本刊積極探索、勇于創新,欄目設置及內容節奏經過編排與改進,受到越來越多的讀者喜愛。
《電子工業專用設備》為《中國科技論文統計》和《中國電子科技文摘》用刊,同時是《中國學術期刊(光盤版)》、中國期刊網、萬方 資源系統(ChinaInfo)數字化期刊網及北極星網站全文收錄期刊。
《電子工業專用設備》雜志學者發表主要的研究主題主要有以下內容:
(一)光學光刻;集成電路;光刻;硅;CMP
(二)表面貼裝技術;SMT;貼片機;波峰焊;SMT生產
(三)半導體產業;半導體;半導體設備;銅互連;應變硅技術
(四)CMP;化學機械拋光;化學機械平坦化;拋光液;半導體材料
(五)半導體器件;刻蝕;MEMS;溝道;焦平面陣列
(六)機器人;冗余度機器人;料器;球磨機;回轉誤差
(七)CMP;化學機械平坦化;化學機械拋光;拋光液;拋光墊
(八)X射線光刻;溝道;半導體器件;版圖;襯底
(九)單晶片;鍺;拋光片;晶片;表面粗糙度
(十)晶圓;直線電機;激光加工;伺服控制;ETHERCAT
1、文題:要求簡潔、明了,準確反映論文的內容,一般不超過20個字。
2、應具有科學性、實用性、邏輯性,論點明確,資料可靠,文字精煉,層次清楚,數據準確,必要時應做統計學處理。
3、摘要文字量50~300字。試驗研究和專題研究類論文,應寫成報道性摘要。
4、作者簡介,包括出生年、性別、職稱或學位、研究方向。置于篇首頁地腳。
5、在參考文獻表中:作者不超過3個的姓名都寫,超過3個的,余者寫“,等”或“,etal”。
立即指數:立即指數 (Immediacy Index)是指用某一年中發表的文章在當年被引用次數除以同年發表文章的總數得到的指數;該指數用來評價哪些科技期刊發表了大量熱點文章,進而能夠衡量該期刊中發表的研究成果是否緊跟研究前沿的步伐。
引證文獻:又稱來源文獻,是指引用了某篇文章的文獻,是對本文研究工作的繼續、應用、發展或評價。這種引用關系表明了研究的去向,經過驗證,引證文獻數等于該文獻的被引次數。引證文獻是學術論著撰寫中不可或缺的組成部分,也是衡量學術著述影響大小的重要因素。
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